【48812】中微公司请求一种半导体零部件的整理洗刷办法专利处理效率高可完成污染层的定量去除
发表时间：2024-06-11 11:21:30 来源：行业资讯
金融界2024年6月7日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，中微半导体设备（上海）股份有限公司请求一项名为“一种半导体零部件的整理洗刷办法“，公开号CN6.6，请求日期为2022年12月。
专利摘要显现，本发明公开了一种半导体零部件的整理洗刷办法，包含：供给一半导体零部件，所述半导体零部件包含零部件本体和坐落所述零部件本体外表的耐腐蚀涂层，所述耐腐蚀涂层中含有稀土金属元素，所述耐腐蚀涂层的外表与等离子体反响构成有污染层；对所述污染层进行外表处理，在所述污染层内掺入掺杂离子以构成献身层；清洗所述半导体零部件，去除所述献身层，暴露出所述耐腐蚀涂层。本发明供给的半导体零部件的整理洗刷办法，手法温文，处理效率高，可完成污染层的定量去除。
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